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機械40-70%相対湿度の露出を選別するDMD DLPの技術コンピュータ

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405±5nm波長と最大曝光サイズをスクリーンする動的フォーカスCTSコンピュータ

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直接120-240s露出とのイメージ投射 システム溶媒抵抗力があるTime/㎡選別するため

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1100 x 1250最高の露出のサイズを選別する紫外線レーザーCTSコンピュータ

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溶媒耐性エミュルション 3μM-150μM 高解像度印刷用 CTS コンピューター 画面

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オートマティック フォーカス 直接 画面 イメージ システム プリント 解像度 12700Dpi

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ダイナミック・フォーカシング・システム 20W/25Wのレーザーパワーオプションでスクリーンするコンピュータ

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先進的なUV405nmレーザーコンピュータ 画面イメージングシステム DLP技術 溶媒耐性エミュルション

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精密DMD DLP コンピューターから画面画像システム 120-240s 曝露時間 3450kg 純重量

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直接DMD DLPの技術の波長405±5nmのイメージ投射 システムを選別するため

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DMD DLP CTS コンピューター・トゥ・スクリーンシステム 1080x1800mm 波長405±5nm

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CTS 設備 耐水性エミュルション 3μM-350μM 純重量 2950 X 1980 X 1710

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